VTC-5RF五靶頭等離子射頻磁控濺射儀
產(chǎn)品概述：
VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對(duì)于高通量MGI（材料基因組計(jì)劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料，通過(guò)5種元素，按16種不同配比組合。
主要特點(diǎn)：
l 多種濺射靶頭及電源可選，自由組合，具體請(qǐng)致電我公司銷售部。
l 根據(jù)所使用的電源（DC或RF），可以沉積金屬或非金屬材料。
l 一個(gè)旋轉(zhuǎn)開(kāi)關(guān)可以依次激活濺射頭，可在真空或等離子體環(huán)境中自動(dòng)切換，不影響真空度。
l 可以安裝五種不同材料的靶材，每個(gè)靶頭可單獨(dú)設(shè)置濺射時(shí)間功率等參數(shù)，用于生長(zhǎng)不同成分的薄膜。
l 可選購(gòu)多個(gè)射頻電源，同一時(shí)間濺射多個(gè)靶材。
l 可選配設(shè)備控制軟件，用電腦控制濺射的所有參數(shù)。
濺射腔體：
l 真空腔體采用304不銹鋼制作
l 腔體內(nèi)部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm
H (105 L)
l 鉸鏈?zhǔn)角婚T(mén)，直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口
濺射頭&樣品臺(tái)：
l 5個(gè)1英寸的磁控濺射頭，帶有水冷夾層
l 濺射腔體內(nèi)安裝有電動(dòng)擋板
l 濺射距離:濺射距離可調(diào)
l 濺射角度:濺射角度可調(diào)
l 實(shí)驗(yàn)時(shí)，需要將靶材和靶材的銅墊片用導(dǎo)電銀漿粘合粘合，（可在本公司購(gòu)買(mǎi)導(dǎo)電銀漿）
l 可以單獨(dú)訂購(gòu)RF連接線作為備用
l 設(shè)備需要一臺(tái)水冷機(jī)，用于靶頭冷卻
樣品臺(tái)：
l 直徑為150mm的樣品臺(tái)，上面覆蓋一旋轉(zhuǎn)臺(tái)，帶有10mm的孔洞，每次露出一個(gè)樣品接收濺射成膜。
l 樣品臺(tái)尺寸：Φ150mm,可通過(guò)程序控制來(lái)旋轉(zhuǎn)，可制作16種不同組分的薄膜
l 樣品臺(tái)可以加熱，*高溫度可達(dá)600℃（根據(jù)配置不同可能會(huì)有變動(dòng)，具體請(qǐng)咨詢銷售部）
真空系統(tǒng)：
l 安裝有KF40真空接口
l 真空度：4.0e-5Torr(分子泵）（參考值，具體請(qǐng)點(diǎn)擊）
l 可在本公司選購(gòu)各種真空泵
進(jìn)氣：
l 設(shè)備上配1/4英寸進(jìn)氣口方便連接氣瓶
l 設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕，方便調(diào)節(jié)氣流
靶材：
l 所要求靶材尺寸：直徑為25mm,*大厚度3mm
l 可在本公司選購(gòu)各種靶材
薄膜測(cè)厚儀（可選）：可在本公司選購(gòu)薄膜測(cè)厚儀安裝在濺射儀上
凈重：60Kg（不包括泵)
質(zhì)量認(rèn)證：CE認(rèn)證
使用提示：
l 此設(shè)備為DIY設(shè)備，參數(shù)變化較大購(gòu)買(mǎi)前請(qǐng)務(wù)必電話仔細(xì)溝通
l 為了得到較好的薄膜質(zhì)量，必須通入高純氣體（建議> 5N）
l 在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺(tái)的潔凈
l 要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合，請(qǐng)?jiān)跒R射前清潔基材表面
l 超聲波清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮?dú)飧稍铮?span>4
